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Workshop Folio 08

Tiefer V-Ausschnitt Applique Etui-Linie Kleid Schokolade 旧礼服0416新增 Die mehrlagigen Rüschen verleihen eine

SKU 2010816708
4.7
Description

Die mehrlagigen Rüschen verleihen eine verspielte Note und machen es zur perfekten Wahl für Brautjungfern am großen Tag

während der angenähte Gürtel die Taille betont und für eine definierte Form sorgt

Modellinformationen: Größe 175 cm

indem sie die Kurven umarmt und in einen dramatischen Flare am Saum kaskadiert

Perfekt für einen anmutigen Look

Tiefer V-Ausschnitt Applique Etui-Linie Kleid Schokolade 旧礼服0416新增 Die mehrlagigen Rüschen verleihen eineDas Kleid ist weiter mit funkelnden Strasssteinen verziert, strategisch platziert, um das Licht bei jeder Bewegung einzufangen und zu reflektieren. Entworfen, um Ihre Figur zu prsentieren, fllt die Etui Spalte Silhouette elegant und schafft einen eleganten und schmeichelhaften Look. Dieses Kleid ist perfekt fr diejenigen, die eine perfekte Balance aus zeitgenssischem Stil und zeitloser Raffinesse suchen. Silhouette: Etui Spalte Stoff: Jersey Saum:

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